UMS Gelar Workshop Penulisan Dekripsi Permohonan Paten Dampingi Dosen PTMA se-Indonesia
KABARMUH.ID, SURAKARTA – Direktorat Pascasarjana Universitas Muhammadiyah Surakarta (UMS) melalui kerjasama Lembaga Penelitian dan Pengabdian Masyarakat (LPPM) dan Asosiasi Sentral Kekayaan Intelektual Perguruan Tinggi Muhammadiyah dan ‘Aisyiyah (ASKI) Perguruan Tinggi Muhammadiyah dan ‘Aisyiyah (PTMA), serta konsorsium LPPM PTMA menyelenggarakan kegiatan Workshop Pelatihan Deskripsi Permohonan Paten Kamis, (29/1).
Kegiatan Workshop ini diikuti oleh peserta dari seluruh Indonesia secara berani, ada sekitar 200 peserta dari PTMA lain. Sedangkan peserta dari UMS sendiri ada sekitar 74 pendaftar.
Workshop ini bertujuan untuk meningkatkan pemahaman dosen dan peneliti mengenai paten, terutama dalam penulisan deskripsi paten sebagai bagian dari persiapan pengajuan PDPP yang akan ditutup pada 13 Februari besok.
Prof.Dr.Ambarwati, M.Si., menjelaskan kegiatan workshop ini secara mendalam menjadi dua sesi. Sesi pagi yakni materi workshop mengenai Penulisan Draf Paten.
“Sesi pagi memang dikhususkan untuk workshop, untuk meningkatkan pemahaman tentang paten, terutama penulisan dan cara draft menulis paten,” ujarnya saat diwawancarai Jumat, (30/1).
Sementara itu, sesi siang dilanjut dengan menulis bersama yang bersifat pendampingan. Dalam sesi ini peserta mendapat pendampingan dalam menyusun rencana paten.
“Kalau ada yang kesulitan dalam mencari paten pembanding atau menulis klaim, nanti kita akan langsung meredamnya. Dan harapannya setelah workshop ini, dapat meningkatkan pemahaman peserta dan draft deskripsi paten sudah mencapai 25 sampai 50 persen,” jelasnya.
Selain workshop dan pendampingan, terdapat kegiatan lanjutan yang akan dilaksanakan pada 9 Februari besok. Pada tahap ini peserta diharapkan dapat menyelesaikan 80 persen penulisan draft deskripsi paten.
Melalui kegiatan workshop ini, UMS berharap peserta dapat menyelesaikan draft deskripsi paten secara optimal dan siap diserahkan sebelum batas akhir PDPP pada 13 Februari, sekaligus mendorong peningkatan jumlah dan kualitas paten di lingkungan PTMA. (Sarah/Humas)
Editor: Hammam Alghazy
